該系統(tǒng)為多源蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)， 系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜。系統(tǒng)主要由鍍膜室、金屬蒸發(fā)源(2套獨(dú)立，配電源)、旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、分子泵組、真空測(cè)量系統(tǒng)、膜厚儀、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成

安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司是一家專注于新材料、新能源、高端裝備設(shè)備的研發(fā)生產(chǎn)與一體的高新技術(shù)企業(yè)，合肥市科技小巨人培育企業(yè)。公司擁有多名專家顧問，其中千人一位，青年千人2位，教授3位。公司擁有400平米的重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，部分實(shí)驗(yàn)室對(duì)外開放。公司擁有31項(xiàng)，其中發(fā)明6項(xiàng)、實(shí)用新型23項(xiàng)、外觀2項(xiàng)。涉及領(lǐng)域包括，石墨烯、碳納米管、高溫?zé)晒夥邸LED有機(jī)小分子材料、PECVD系統(tǒng)等。公司產(chǎn)品有智能高低溫CVD系統(tǒng)、PECVD系統(tǒng)、各種真空氣氛管式爐、高低溫箱式爐、等離子清洗設(shè)備、RF濺射設(shè)備、各種壓力的手動(dòng)自動(dòng)壓片機(jī)、各種功能尺寸的手套箱、球磨機(jī)、氧化鋯齒科燒結(jié)爐等。

 一、系統(tǒng)功能及構(gòu)成

  1. 該系統(tǒng)為多源蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)， 系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜。系統(tǒng)主要由鍍膜室、金屬蒸發(fā)源(2套獨(dú)立，配電源)、旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、分子泵組、真空測(cè)量系統(tǒng)、膜厚儀、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成。

  2. 鍍膜極限真空度：≤10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

  真空獲得采用分子泵(1200L/S)和機(jī)械泵(8L/S)+CF200主閥組成，此配置具有抽速快，可獲得高真空環(huán)境，提供薄膜的潔凈度。

  真空泵組前配有冷凝過濾井，放置蒸發(fā)材料污染真空系統(tǒng)。

  系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S;

  系統(tǒng)從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到5x10-4 Pa;

  系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)1小時(shí)后真空度：≤5Pa

  3. 鍍膜室中配有2組熱蒸發(fā)源，、分布在一個(gè)圓周上(下底蓋位置均勻分布)，各源可獨(dú)立/順次工作，配個(gè)圓形旋轉(zhuǎn)擋板，擋板缺口移到哪個(gè)工位，哪個(gè)工位材料可以蒸發(fā)。

  4. 樣品臺(tái)布置在真空室上部，可放置最大6英寸樣品1片，樣品具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能，旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。

  5. 真空測(cè)量采用進(jìn)口INFICON 全量程規(guī)進(jìn)行測(cè)量。

  6. 系統(tǒng)配有二路國產(chǎn)口MFC控制進(jìn)氣系統(tǒng)，流量分別為100SCCM、50SCCM。

  7. 系統(tǒng)配有1個(gè)INFICON膜厚儀。

 

  二、系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)

  濺射室極限真空度：≤10-6Pa(經(jīng)烘烤除氣后);

  系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-8Pa.l/S;

  系統(tǒng)從大氣開始抽氣：濺射室35分鐘可達(dá)到5x10-4 Pa;

  1、濺射真空室

  真空室為方形前開門結(jié)構(gòu)，尺寸350mmx400mmx350mm(寬X高X深)全不銹鋼結(jié)構(gòu)?？蓛?nèi)烘烤到100～150℃，選用不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進(jìn)行電化學(xué)拋光國內(nèi)首家鈍化處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封;手動(dòng)前開門結(jié)構(gòu);蒸發(fā)源安裝在下蓋板，基片轉(zhuǎn)臺(tái)在頂部，左側(cè)面設(shè)置有光纖旋轉(zhuǎn)裝置。

  2、鍍膜源

  2套蒸發(fā)源;

  3、旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)基片臺(tái)

  3.1 基片尺寸和數(shù)量：6英寸樣品一次放置1片。

  3.2、基片公轉(zhuǎn)由調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)，轉(zhuǎn)動(dòng)速度

  4、工作氣路

  4.1、100SCCM、50SCCM質(zhì)量流量控制器(國產(chǎn))、DN6電動(dòng)截止閥、管路、接頭等：共2路

  5、抽氣機(jī)組及閥門、管道

  5.1、分子泵;

  5.2、機(jī)械泵：;

  5.3、DN40電動(dòng)截止閥：1臺(tái);

  5.4、機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路：1套;

  5.5、CC200氣動(dòng)閘板閥：1臺(tái);

  5.6、DN40旁抽角閥：1臺(tái)

  5.7、配備一套低溫冷阱及壓縮機(jī)組件

  6、安裝機(jī)臺(tái)架組件

  優(yōu)質(zhì)方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理;機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾;四只腳輪，可固定，可移動(dòng)。

  7、真空測(cè)量

  濺射室采用進(jìn)口INFICON 復(fù)合規(guī)進(jìn)行測(cè)量。

  8、系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏半自動(dòng)控制方式

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