總有機(jī)碳（TOC）分析儀（在線離線兩用） 型號(hào):M400481庫(kù)號(hào)：M400481

東方化玻（北京）科技有限公司成立于 2014 年，是實(shí)驗(yàn)設(shè)備、平臺(tái)綜合解決方案提供商。公司為國(guó)內(nèi)企事業(yè)單位 提供高品質(zhì)儀器儀表，實(shí)驗(yàn)設(shè)備以及整體解決方案。 公司與國(guó)內(nèi)外多家世界生產(chǎn)商已建立長(zhǎng)期合作關(guān)系。公司經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品廣泛，靈活滿足不同事業(yè)單位和企業(yè)客戶的差異化需求 以及快速創(chuàng)新的追求，產(chǎn)品故障率低，維護(hù)成本小，性能優(yōu)異，售后服務(wù)完善。公司產(chǎn)品在行業(yè)內(nèi)均擁有持續(xù)的應(yīng)用歷史并 經(jīng)過市場(chǎng)實(shí)際應(yīng)用檢驗(yàn)。 堅(jiān)持以持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新為客戶不斷創(chuàng)造價(jià)值為經(jīng)營(yíng)理念，公司在產(chǎn)品研發(fā)方面投入比例逐年遞增，目前自主研發(fā)并投入市場(chǎng) 的產(chǎn)品已達(dá)十余種，長(zhǎng)期以來，公司一直按照標(biāo)準(zhǔn)，搭建實(shí)驗(yàn)室平臺(tái)，構(gòu)建高品質(zhì)、高標(biāo)準(zhǔn)、持續(xù)創(chuàng)新的發(fā)展體系。 堅(jiān)持穩(wěn)步發(fā)展的管理理念，不斷刷新自己在業(yè)內(nèi)的記錄。

總有機(jī)碳（TOC）分析儀是產(chǎn)品，采用的雙波長(zhǎng)紫外氧化技術(shù)，度高、靈敏度高。高性能CPU，觸摸屏智能化控制，具有離線分析和在線分析選配功能，配制外置式打印機(jī)，人性化的設(shè)計(jì)理念，換UV燈和泵管不用拆開機(jī)箱，操作簡(jiǎn)單、方便，實(shí)現(xiàn)了分析儀器國(guó)產(chǎn)化。符合《藥典》2010版附錄 VIII R制藥用水中總有機(jī)碳測(cè)定法，滿足藥典對(duì)儀器的要求：①TOC=TC-TIC，②系統(tǒng)適用性試驗(yàn)，③檢測(cè)靈敏度（等于或小于0.05mg/L）

詳細(xì)資料：
工作原理
樣品中的有機(jī)物在紫外線及二氧化鈦廣催化的作用下被氧化成二氧化碳，采用電導(dǎo)率檢測(cè)技術(shù)測(cè)定二氧化碳，通過電導(dǎo)率傳感器檢測(cè)經(jīng)氧化反應(yīng)器氧化后的樣品總碳與電導(dǎo)率傳感器檢測(cè)未經(jīng)氧化反應(yīng)器氧化的樣品總無(wú)機(jī)碳之差，獲得樣品中總有機(jī)碳含量（TOC=TC-TIC）。

產(chǎn)品特點(diǎn)
1、高靈敏度，操作簡(jiǎn)單。
2人性化操作界面，有一鍵運(yùn)行功能，自動(dòng)管路清洗功能。
3高性能CPU，觸摸屏設(shè)計(jì)，640*480點(diǎn)陣真彩顯示器。
4不用拆開機(jī)箱換UV燈和泵管。
5檢測(cè)上限可設(shè)定，自動(dòng)上限報(bào)警功能。
6具有RS232數(shù)據(jù)接口，歷史數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)6個(gè)月。
7離線檢測(cè)和在線檢測(cè)可選配。
8具有微型打印機(jī)接口（打印機(jī)外置）。
技術(shù)參數(shù)
電　　源：AC220V±22V
頻　　率：50HZ±1HZ
功　　率：95W
外形尺寸：340*390*145mm
重 　　量：15kg
TOC檢測(cè)范圍：0.001mg/l-1.0mg/l
檢測(cè)度：±5%
檢測(cè)時(shí)間：≤4min/次
響應(yīng)時(shí)間：≤15min
樣品流量：0.5ml/min
樣品溫度：1-95℃
環(huán)境濕度：≤85%RH
環(huán)境溫度：10-40℃
重復(fù)誤差：≤3%
線性誤差：±5%

應(yīng)用范圍
1. 該儀器可用于檢測(cè)制藥工業(yè)中純化水、注射用水和去離子水中有機(jī)碳的濃
度；也可用于半導(dǎo)體行業(yè)中純水TOC的檢測(cè)。
2. 在制藥領(lǐng)域和生物化學(xué)領(lǐng)域清潔驗(yàn)證過程中，可用于驗(yàn)證清潔效果。
3. 該儀器具有在線檢測(cè)功能，可以在線監(jiān)測(cè)制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)
的純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過程、電廠去離子水制備過程等。


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