用途：磁控濺射PVD鍍膜，氮化鈦(TiN)、氮碳化鈦(TiCN)、氮化鋯(ZrN)、氮化鉻(CrN)、氮化鋁鈦(T

利方達(dá)(香港)有限公司于2002年創(chuàng)建。公司目前集中了一批多年從事真空鍍膜專業(yè)的技術(shù)人員和經(jīng)驗(yàn)豐富的市場(chǎng)銷售人員,現(xiàn)已經(jīng)發(fā)展成為由利方達(dá)(香港)有限公司,深圳市利方達(dá)科技有限公司,利方達(dá)科技北京辦事處組成 的，集真空產(chǎn)品研發(fā),生產(chǎn)及貿(mào)易以及維修服務(wù)為一體的企業(yè)集團(tuán) 。
 

 

 

我們的業(yè)務(wù)專長(zhǎng)于真空及鍍膜設(shè)備領(lǐng)域的代理銷售業(yè)務(wù)，致力于把世界上最先進(jìn)的技術(shù)和設(shè)備引進(jìn)中國(guó).憑借多年的真空專業(yè)技術(shù)積累, 雄厚的技術(shù)力量和真誠(chéng)的服務(wù), 我們得到了業(yè)界的眾口稱贊,擁有了大量的客戶群體, 產(chǎn)品廣泛用于真空,光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、平板顯示等相關(guān)領(lǐng)域.
　
主要業(yè)務(wù)包括代理銷售國(guó)外知名產(chǎn)品:美國(guó)AE(Advanced Energy)公司的電源產(chǎn)品(射頻電源、中頻電源、直流電源)及流量產(chǎn)品(氣體質(zhì)量流量計(jì)、質(zhì)量流量控制器);瓦里安公司真空產(chǎn)品(分子泵,機(jī)械泵,干泵,真空計(jì),檢漏儀,各種真空閥門,和檢漏系統(tǒng)); 美國(guó)泰利瑪科公司(Telemark)的電子槍和光學(xué)膜厚控制儀等;英國(guó)等離子快思特公司(PLASMA QUEST)和美國(guó)QUEST公司的鍍膜設(shè)備, 美國(guó)安斯超科學(xué)公司(Angstrom)的磁控濺射陰極,濺射靶材 ，以及橢偏膜厚測(cè)量?jī)x；美國(guó)Ferrolab 公司的各種磁流體密封饋入件;臺(tái)灣立耀公司(REYO)的快速測(cè)量光譜儀;核心麥克勞德(Essential Macleod)光學(xué)薄膜分析與設(shè)計(jì)的軟件;瑞士英?？档犬a(chǎn)品。
　
主要代理業(yè)務(wù) ：
1、美國(guó)AE(Advanced Energy)射頻電源、中頻電源、直流電源、質(zhì)量流量控制器。

2、美國(guó)Varian分子泵、擴(kuò)散泵、干泵、氦質(zhì)譜檢漏儀、真空規(guī)管、真空閥門、真空法蘭。
3、美國(guó)Telemark電子槍、超低溫冷阱、880型石英晶體膜厚控制儀、晶振片。
4、瑞士Inficon氦質(zhì)譜檢漏儀、真空規(guī)管、壓強(qiáng)控制儀、真空閥門、真空法蘭、四級(jí)質(zhì)譜儀。
5、美國(guó)Angstrom Sciences 濺射陰極和靶材、陰極翻新。
6、美國(guó)Angstrom Advanced 橢圓偏振膜厚測(cè)量?jī)x。
7、美國(guó)Semicore公司Mark50鍍膜機(jī)、In line磁控濺射鍍膜機(jī)。
8、美國(guó)Maxtek石英晶體膜厚控制儀、晶振片、壓電閥。
9、光學(xué)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜、PECVD、真空排氣臺(tái)、RGA殘余氣體分析儀、非標(biāo)真空設(shè)備的開發(fā)及生產(chǎn)。
　
維修業(yè)務(wù)：
1，MAXTEK MDC-360C石英晶控儀；
2，真空泵的維修保養(yǎng)；(旋片泵、羅茨泵、干泵等)
3，質(zhì)量流量計(jì)的維修；
4，真空計(jì)的維修保養(yǎng)；
5，殘余氣體分析儀(RGA)的維修保養(yǎng)。

 

我們的經(jīng)營(yíng)理念是：顧客至上, 誠(chéng)信熱情、 靜心聆聽，不斷完善。我們以誠(chéng)信和良好的售后服務(wù)贏得了廣大客戶的肯定和信任,期待您的來電咨詢及業(yè)務(wù)洽談,謝謝 ！

用途：磁控濺射PVD鍍膜，氮化鈦(TiN)、氮碳化鈦(TiCN)、氮化鋯(ZrN)、氮化鉻(CrN)、氮化鋁鈦(TiAIN)、碳化鈦(TiC)等
基材：不銹鋼,鋅合金,塑料
應(yīng)用：外殼，MP3外殼，數(shù)碼相機(jī)外殼，各種標(biāo)牌的裝飾改性加硬鍍膜
顏色：白色，金色， 銀色， 黑色 ， 蘭色等
基本參數(shù)：
1、真空室尺寸：1210mm(直徑)×1200mm(高)；
2、抽氣時(shí)間速：大氣到5×10-3Pa≤20min (空載, 冷態(tài),潔凈)；
3、zui高烘烤溫度:300℃
4、極限真空：優(yōu)于1×10-3Pa；
5、采用側(cè)面對(duì)開門方式,便于工件裝卸；
6、3只觀察窗口，左右門上各一個(gè)，室體正前方一個(gè)；
7、2臺(tái)φ400mm口徑分子泵、1臺(tái)ZJP300型羅茨泵， 2臺(tái)2X-70型機(jī)械泵抽氣；
8、一套公、自轉(zhuǎn)工轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，采用下驅(qū)動(dòng)方式的二維平面行星機(jī)構(gòu)；自轉(zhuǎn)軸20根；
9、所有驅(qū)動(dòng)引入采用帶水冷套磁流體密封；
10、四對(duì)磁控濺射靶平行安裝且成圓周分布，靶材尺寸：910mm×120mm(長(zhǎng)×寬)；
11、4路進(jìn)口質(zhì)量流量計(jì)進(jìn)氣；
12、預(yù)濺射小車擋板，控制預(yù)濺射工藝；
13、三臺(tái)30KW中頻電源及一臺(tái)30KW脈沖偏壓電源；
14、控制系統(tǒng)采用觸摸屏上位機(jī)(工控機(jī))+下位機(jī)(PLC)的控制形式
15、控制系統(tǒng)有手動(dòng)和自動(dòng)，全系統(tǒng)具有互保護(hù), 泵閥互鎖。

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