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半導體激光原理實驗裝置MHY-9119儀器簡介

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  • 更新日期:2015-10-20 11:53
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詳細介紹
 半導體泵浦激光原理實驗裝置/半導體激光原理實驗裝置   型號:MHY-9119
儀器簡介
  適用于大學近代物理教學中非線性光學實驗,本實驗以808nm半導體泵浦Nd:YVO4激光器為研究對象,讓學生自己動手,調整激光器光路,產(chǎn)生1064nm激光。在腔中插入KPT警惕產(chǎn)生532nm倍頻光,觀察倍頻現(xiàn)象,測量倍頻效率,相位匹配角等基本參數(shù)。從而對激光原理及激光技術有一定了解。
   實驗原理同HAD1WGL-1型半導體泵浦激光原理實驗裝置,泵浦激光源強度連續(xù)可調,指示光源He-Ne激光器。
儀器參數(shù)
光學導軌,二維調節(jié)架,四維調節(jié)架
泵浦光源 808nm半導體激光器
指示光源 650nm半導體激光器
晶體 KPT Nd:YVO4
輸出鏡及濾光片
激光功率計指示
 
 
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