一、產(chǎn)品描述

HMX系列真空氣氛爐廣泛應用于實驗室、工礦企業(yè)、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根據(jù)不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

真空系統(tǒng)采用特種設計技術，具有操作安全、方便、真空度好，極限真空度可達20kPa，密封性好，真空保持時間長。該氣氛爐可充入高壓氣體，氣氛壓力極限值0.1MPa，采用獨特的密封技術，可長時間保壓，安全性能好，操作方便。

HMX1100型真空氣氛爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，能快速對溫控系統(tǒng)降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計后由后膛進出，有多處洗爐膛進氣口、出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。

二、HMX1100系列真空氣氛爐規(guī)格型號